EDI超纯水设备与混床超纯水设备对比优势
人气 :6071 发表时间 :2014-06-23 01:02:51
超纯水设备_EDI系统设备优势
1)
、整套系统全自动控制
,确保长效稳定运行
,操作简单方便
;
2)
、配备软水器
,并配备有专用盐箱
;
3)
、采用双级反渗透+EDI与核能混床配置
,最大程度确保系统稳定运行
;
4)
、配备PH调节设备并配有PH在线检测仪
,杜绝因CO2引起的EDI产水不稳定
;
5)
、采用进口海德能超低压反渗透膜
,脱盐率高
,使用寿命长
,运行稳定
,能耗低降低20%
;
6)
、反渗透通过膜设计软件及现场运行经验
,科学配置
;
7)
、反渗透系统采用全自动方式控制
,主要元件采用进口元件
,稳定性高
,操作简单方便
;
8)
、配备有UV紫外线及膜滤器
,防止细菌对CEDI及水质的影响
;
9)
、通过专业技术
,确保EDI系统短时停机或长时间停机时水质保持稳定
;
10)
、采用原装进口西门子Ionpure系列CEDI膜堆
,性能稳定
,使用寿命长
,连续出水水质稳定无波动
,专利“全填充”浓水室
,不需加盐和浓水循环
;
11)
、EDI流量计采用德国进口斯德宝品牌的带磁感应浮子流量计
,可预防因浓水通道堵塞或其他设备故障引起的无浓水产水而对膜堆造成的损坏
;
12)
、配备有原水箱
,防止因自来水压力不稳定对设备造成影响
;
13)
、配备专用浓水调节阀
,操作方便
;
14)
、预处理都采用全自动控制
,结构紧凑
,安装方便
;
15)
、所有水质检测仪表采用科达品牌
,并配有原水电导率检测及PH在线检测
;
16)
、主要电器元件采用施耐德
,稳定
,美观
;
17)
、主题材料全部采用行业内国际知名品牌
,保质保量
,并按最佳配置设计
。
一
、EDI超纯水系统与混床系统运行成本分析
EDI是一种将电渗析和离子交换相互结合在一起的除盐新工艺
,该工艺过程取电渗析和离子交换两者之长
,弥 补对方之短
,即利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不彻底
,又利用电渗析极化而发生水电离产生H+和OH-离子实现树脂自再生来克服树脂失效后通过化学药剂再生的缺陷
,因而EDI技术是一种完美的除盐工艺
。
EDI可代替传统的混合离子交换技术(MB-DI)生产稳定的去离子水
。EDI技术与混合离子交换技术相比有如下优点
:
序号 | EDI系统 | 混床系统 |
1. | 水质稳定 | 水质有波动 |
2. | 可连续产水 | 需停机再生 |
3. | 自控性能好 | 自控性能差 |
4. | 对维护人员技术要求低 | 对维护人员技术要求高 |
5. | 不需化学再生 | 需酸碱再生 |
6. | 占地面积小 | 占地面积相对较大 |
7. | 无污水排放 | 有再生酸碱废水排放 |
8. | 一期投资较大 | 一期投资相对较少 |
9. | 运行费用低 | 运行费用高 |
二 、EDI超纯水设备参数
1 、进水水质 :市政自来水 ,电导率≤500μs/cm
2
、产生水质
: 一级反渗透系统处理后
,产水电导率<10μS/cm(以在线仪表监测为准)
二级反渗透系统处理后
,产水电导率<2μS/cm (以在线仪表监测为准)
混床产生电阻率
:≥ 10MΩ·CM
EDI系统产水电阻率
:≥15MΩ·CM
核能混床产水电阻率
:≥18MΩ·CM
1 、电源 :380V AC 50Hz 三相四线
2 、相对湿度 :≤80% 、无强酸 、强碱等 挥发性气体 ,无强电磁干扰
3 、安装场地要求 :地面设有防水层 ,地漏 ,保持排水通畅 。
4 、控制方式 :自动、手动 、全自动PLC控制系统
5 、设备系统脱盐率 :≥99.5%
6 、进水温度 :15 。C-35 。C
7 、工作方式 :可24小时连续工作
8 、反渗透设备回收率 :50%-75%
设备按小时产水量m3/h(25℃水温计
,以下同)分三类
:
a) 小型设备 日产水量≤3m3/h
b) 中型设备 日产水量4~20 m3/h
c) 大型设备 日产水量≥20m3/h
三 、超纯水设备技术标准
1 、反渗透水处理设备国家标准(GB/T 19249-2003)
2 、机电产品包装通用技术条件(GB/T 13384 )
3 、水处理设备 技术条件(JB/T 2932 )
4、中国国家电子级超纯水规格( GB/T11446.1-1997)
四 、EDI超纯水设备应用行业
1. 、电力 、电镀 、照明电器 、实验室 、食品 、造纸 、日化、建材 、造漆 、蓄电池 、化验 、生物 、制药 、石油 、化工 、钢铁 、玻璃等领域 化工工艺用水 、化学药剂 、化妆品等用纯水 。
2.多晶硅 、半导体晶片切割制造 、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架 、集成电路 、 液晶显示器 、导电玻璃 、电池(蓄电池) 、显像管 、线路板、光通信 、电脑元件 、电容器 、洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水
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